HP系列氫氣純化設(shè)備

本設(shè)備采用貴金屬脫氧劑脫氧,使脫氧后氫氣中的殘氧量小于1PPm,露點小于―70℃,并且常溫脫氧安全可靠,操作簡單,所有關(guān)鍵部件均采用原裝進口,更加安全可靠。

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